半导体光刻胶全球市场总体规模，年复合增长率CAGR为7.0%

半导体光刻胶主要用于分立器件、LED、集成电路等产品的生产，半导体光刻胶随着市场对半导体产品小型化、功能多样化的要求，而不断通过缩短曝光波长提高极限分辨率，从而达到集成电路更高密度的集积。按照曝光波长，半导体光刻胶可分为紫外宽谱（300-450nm）、g 线（436nm）、i 线（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）、EUV（13.5nm）等 6 个主要品类。 据QYResearch调研团队最新报告“全球半导体光刻胶市场报告2024-2030”显示，预计2......

2024-12-21